Prinano宣称其纳米压印工艺无需深紫外光刻器具即可分娩光子芯片，同期大幅裁减资本。

一家中国初创公司宣称在光子芯片制造鸿沟取得打破，其在不依赖传统深紫外（DUV）光刻系统的情况下，凯旋分娩出8英寸光学芯片晶圆。

总部位于杭州的Prinano暗示，该公司使用其纳米压印光刻（NIL）期间，凯旋考据了光子芯片的量产。这种制造按序通过物理面孔将纳米级图案压印到晶圆上，而非通过光学系统进行投影。

据该公司先容，该工艺是与深圳利特拉科技（Shenzhen Litra Technology）勾通完成的，并使用了后者的PL-AS真空气垫纳米压印光刻设备。Prinano称，该按序“十足闪避”了对DUV光刻器具的需求，同期将制变资本降至传统决策的约十分之一。

这一音信发布之际，由于获得荷兰供应商ASML先进光刻系统的渠谈受限，LOL比赛下注app2026中国官方下载中国芯片制造商仍在捏续寻求替代制造期间。

光子芯片应用于光通讯、传感系统、激光雷达和数据中心等鸿沟。与传统的电子芯片不同，它们诳骗光而非电信号来搞定信息。

Prinano暗示，其期间撑捏光子芯片的晶圆级分娩，并可应用于基于砷化镓、磷化铟和硅光子期间的光通讯及传感设备。

该公司称，其PL-AS设备具备亚10纳米线宽差异率以及晶圆级压力甘休才气。然则，并未线路分娩量、制造良率或客户发货数据。

纳米压印光刻弥远以来被视为传统光学光刻的潜在替代决策，2026世界杯即时比分因为它无需崇高的投影光学系统即可制造极其精致的特征。该期间于20世纪90年代由普林斯顿大学西席周郁（Stephen Y. Chou）始创。

Prinano首创东谈主葛海雄曾师从周郁，并于2017年创立公司，奋勉于设备纳米压印设备、材料和制造工艺。

频年来，跟着芯片制造商寻求更低资本的制造按序，业界对纳米压印光刻的深嗜深嗜有所加多。2023年，佳能推出了生意化的纳米压印光刻系统，并将其行动某些先进光刻器具的替代决策加以实际。

尽管出路看好，但分析师们质疑该期间能否达到大鸿沟半导体制造所需的微辞量和良率。

征询公司SemiAnalysis此前指出，天然纳米压印光刻设备可能比先进光刻器具更低廉，但举座经济性取决于劣势率、模板分娩、微辞量和工艺集成等要素。

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Prinano的公告专注于光子芯片而非先进逻辑搞定器，这一区别可能使其生意化更容易已矣。光子器件时常依赖光栅、波导和环形谐振器等类似性纳米结构，这些结构越过符合基于压印的制造面孔。

该公司暗示，该期间已参预晶圆级分娩考据阶段，但对于良率、生意部署和制造鸿沟的孤苦考据数据尚未线路。

对于中国半导体产业而言，这一发扬突显了在获得先进光刻设备仍受限的配景下，业界正捏续努力探索替代制造道路。

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